Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения

Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения - особый выбор для приобретения в интернет гипермаркете! Производитель популярен своим отличным свойством изделий, устоявшимся массовыми положительными мнениями специалистов. Продукт соответствует полным сегодняшним требованиям и производится только из высококачественных материалов. Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения по лучшей цене в представленном интернет маркете. Для комплексного изучения продукта посмотрите снимки, характеристики, мнения покупателей.

Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10"-1012 см-3), минимальный разброс ионов по энергиям (Aei < 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (Ю^-ИО-1 Па) и низкую энергетическую цену иона (30-^80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в...

Еще более досконально о данной продукции возможно узнать в официальной интернет-документации, поставляющейся в комплекте, а также на сайте магазина. Вы имеете возможность ознакомиться с иными похожими изделиями подборки «Книги по физике» и сопоставить их в разделе «Похожие товары». Не забудьте использовать уникальные акции, представленные на нашем веб-сайте Allshopplus